MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung
MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung

MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung

Aachen Vollzeit 36000 - 60000 € / Jahr (geschätzt)
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Auf einen Blick

  • Aufgaben: Planung und Durchführung von Versuchen zur Nanostrukturierung mit DUV-Laserstrahlung.
  • Arbeitgeber: Fraunhofer ILT, führend in der Lasertechnik und angewandten Forschung.
  • Mitarbeitervorteile: Flexible Arbeitszeiten, erstklassige Laborausstattung, gute Verkehrsanbindung.
  • Warum dieser Job: Innovatives Umfeld, multidisziplinäres Team, enge Industriekooperation.
  • Gewünschte Qualifikationen: Studium in Physik, Maschinenbau, Elektrotechnik oder verwandten Feldern; Interesse an Lasertechnik und Nanotechnologie.
  • Andere Informationen: Befristete Stelle bis zum Abschluss der Diplomarbeit.

Das voraussichtliche Gehalt liegt zwischen 36000 - 60000 € pro Jahr.

MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung

Lasertechnik

Aachen

Vollzeit

YF24708578

Die Fraunhofer-Gesellschaft betreibt in Deutschland derzeit 76 Institute und Forschungseinrichtungen und ist die weltweit führende Organisation für anwendungsorientierte Forschung. Rund 30 800 Mitarbeitende erarbeiten das jährliche Forschungsvolumen von 3,0 Milliarden Euro.

Das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT, Europas führendes Zentrum für Auftragsforschung und -entwicklung auf dem Gebiet der Lasertechnik, bietet in Kooperation mit dem Lehrstuhl für Lasertechnik der RWTH LLT die Möglichkeit zur Erstellung einer Diplomarbeit.

Die Gruppe In-Volumen-Strukturierung und Lithographie beschäftigt sich mit der Strukturierung von transparenten Materialien und Halbleitern mittels gepulster Laserstrahlung mit Pulsdauern im Femtosekunden- bis Nanosekundenbereich. Durch den Einsatz von Laserwellenlängen im tief ultravioletten Bereich (150-300 nm) lassen sich Strukturgrößen im Bereich von wenigen hundert Nanometern erzeugen, die beispielsweise in der Halbleiterindustrie, der Medizintechnik oder der Optikindustrie eingesetzt werden. Eine der aktuellen Herausforderungen ergibt sich aus den gestiegenen Anforderungen der neuen Anwendungen an die Auflösung und Kantenqualität der erzeugten Strukturen.

Die höchste Auflösung in der Strukturierung wird derzeit mit indirekten photolithographischen Verfahren erreicht, bei denen eine photoaktive Schicht zunächst belichtet und dann chemisch entwickelt wird. Wäre es jedoch möglich, solche Schichten in vergleichbarer Qualität und Auflösung direkt abzutragen, würde dies den gesamten Prozess der Mikrochipherstellung deutlich energieeffizienter und umweltfreundlicher machen. Durch den Einsatz von Lasern mit kurzen Wellenlängen und einer neuartigen, hochauflösenden Phasenmasken-Technologie könnte dieses Ziel realisierbar sein.

Was Du bei uns tust

  • Selbstständige Planung und Durchführung von Versuchen zur Grundlagenforschung und Prozessoptimierung
  • Auswerten und Präsentieren der Ergebnisse
  • Unterstützung bei der Planung, dem Aufbau und der Durchführung von Experimenten
  • Durchführung von Experimenten

Was Du mitbringst

  • Du studierst Physik, Maschinenbau, Elektrotechnik, Informationstechnik, Werkstoffwissenschaften oder einen vergleichbaren Studiengang
  • Interesse an Lasern, Nanotechnologie, der Herstellung komplexer Bauteile und der Entwicklung neuer Verfahren oder dem Verständnis und der Verbesserung bestehender Verfahren
  • Vorkenntnisse in der Laser- und Halbleitertechnik sind von Vorteil, aber nicht zwingend erforderlich

Was Du erwarten kannst

  • Praxisorientierte Diplomarbeit in einem innovativen Arbeitsumfeld
  • Ein kreatives, vielfältiges, multidisziplinäres Team mit fundiertem Wissen
  • Aufgaben mit Verantwortung und Handlungsspielraum
  • Enge Zusammenarbeit zwischen Wissenschaft und Industrie
  • Erstklassige Ausstattung in den Labors und Büros
  • Gute Verkehrsanbindung (Busverbindungen, kostenloses Parkhaus)
  • Flexible Arbeitszeiten für eine bessere Vereinbarkeit von Beruf und Studium

Die Stelle ist bis zur Beendigung der Abschlussarbeit befristet.

Wir wertschätzen und fördern die Vielfalt der Kompetenzen unserer Mitarbeitenden und begrüßen daher alle Bewerbungen – unabhängig von Alter, Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung sowie sexueller Orientierung und Identität. Schwerbehinderte Menschen werden bei gleicher Eignung bevorzugt eingestellt.

Mit ihrer Fokussierung auf zukunftsrelevante Schlüsseltechnologien sowie auf die Verwertung der Ergebnisse in Wirtschaft und Industrie spielt die Fraunhofer-Gesellschaft eine zentrale Rolle im Innovationsprozess. Als Wegweiser und Impulsgeber für innovative Entwicklungen und wissenschaftliche Exzellenz wirkt sie mit an der Gestaltung unserer Gesellschaft und unserer Zukunft.

Haben wir Dein Interesse geweckt? Dann bewirb Dich jetzt online mit Deinen aussagekräftigen Bewerbungsunterlagen. Wir freuen uns darauf, Dich kennenzulernen!

Fragen zu dieser Stelle werden beantwortet von

Dr. rer. nat. Serhiy Danylyuk

Telefon +49 0241/8906-525

Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT

Kennziffer: 73378 Bewerbungsfrist: 30.06.2024

MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung Arbeitgeber: Lasertechnik

Das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT bietet ein dynamisches Arbeitsumfeld mit Spitzenforschung in der Lasertechnik. Mit exzellenter Ausstattung und einer Kultur der Innovation bietet es ideale Bedingungen für wissenschaftliche und persönliche Entwicklung. Die Zusammenarbeit mit Industrie und Wissenschaft garantiert praxisnahe Projekte und fördert die Karriereentwicklung.
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Kontaktperson:

Lasertechnik HR Team

Diese Fähigkeiten machen dich zur top Bewerber*in für die Stelle: MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung

Projektmanagement
Statistische Analyse
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  • MA Direkte Nanostrukturierung von Photoresists mit tief-ultravioletter (DUV) Laserstrahlung

    Aachen
    Vollzeit
    36000 - 60000 € / Jahr (geschätzt)
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    Bewerbungsfrist: 2026-11-02

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